一硅化铬
| 一硅化铬 | |
|---|---|
| IUPAC名 Chromium(4+) silicide | |
| 识别 | |
| CAS号 | 12018-08-5 
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| PubChem | 72720431 |
| ChemSpider | 103867619 |
| SMILES |
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| EINECS | 234-632-5 |
| 性质 | |
| 化学式 | CrSi |
| 摩尔质量 | 80.081 g/mol g·mol⁻¹ |
| 密度 | 5.44 g/cm3[1] |
| 溶解性（水） | insoluble |
| 磁化率 | 5.1×10-6 emu/g[2] |
| 结构 | |
| 晶体结构 | Cubic, cP8[1] |
| 空间群 | P213, No. 198 |
| 晶格常数 | a = 0.4607 nm |
| 相关物质 | |
| 其他阳离子 | 一硅化锰 一硅化钼 |
| 若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。 | |
一硅化铬是一种无机化合物，化学式为CrSi，它是铬的硅化物之一。它可以在铬和氮化硅的高温反应中生成，该反应也会生成其它硅化铬。[3]它的硅元素2p轨道的X射线光电子能谱（XPS）峰位于99.1 eV，比硅单质低0.3 eV。[4]
参考文献
[编辑]- ^ 1.0 1.1 Villars, Pierre (Ed.) CrSi Crystal Structure. Inorganic Solid Phases, SpringerMaterials (online database)
- ^ Shinoda, Daizaburo; Asanabe, Sizuo. Magnetic Properties of Silicides of Iron Group Transition Elements. Journal of the Physical Society of Japan. 1966, 21 (3): 555. Bibcode:1966JPSJ...21..555S. doi:10.1143/JPSJ.21.555.
- ^ 下尾 聰夫, 小林 康裕, 岡村 清人. Si3N4粉とCr粉の高温反応機構. 日本金属学会誌, 1993. 57 (5). 561-567. doi:10.2320/jinstmet1952.57.5_561.
- ^ Naofumi Ohtsu; et al. XPS spectra of chromium monosilicides and disilicides obtained by in situ fractured clean surfaces. Surface and Interface Analysis. 2020, 52 (12, Sp. Issue) 1050-1054. doi:10.1002/sia.6837.